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華為三星專利侵權糾紛和解
http://www.CRNTT.com   2019-05-15 14:35:08


5月14日,華為與三星專利侵權糾紛歷經8年終調解(圖片來源:網絡)
  中評社北京5月15日電/華為與三星專利侵權糾紛歷經8年終調解。廣東省高級人民法院(下稱“廣東高院”)14日透露,經訴訟調解,華為技術有限公司(下稱“華為公司”)與三星(中國)投資有限公司(下稱“三星公司”)在涉及標準必要專利的侵權糾紛系列案中達成全球和解,就全球範圍內的標準必要專利交叉許可問題達成框架性的《專利許可協議》。雙方具體的調解條件並未披露。業內知識產權專家稱,這一結果是對雙方都相對有利的一種選擇。

  專家:對雙方都有利

  記者了解到,2011年以來,華為公司和三星公司就專利交叉許可問題進行多輪談判,但一直未取得實質性進展。此後,雙方先後在中國和有關國家分別提起訴訟共40餘件。2018年1月11日,深圳市中級人民法院對其中兩件專利侵權糾紛案件依法作出一審判決,認定三星公司在中國生產、銷售的4G智能終端產品侵犯華為公司的兩項專利權。三星公司不服,向廣東高院提起上訴。

  據了解,就全球範圍內的標準必要專利交叉許可問題,雙方已達成框架性的《專利許可協議》,同時相關訴訟也得到一攬子解決,開始陸續撤訴。

  在一個月前,高通和蘋果也達成和解,撤回所有相關訴訟,簽訂為期六年的直接授權許可協議。業界有觀點認為,高通的下一個目標就是華為,高通也已明確提出,與華為的談判正在進行,而與蘋果的和解增強了解決與華為問題的能力。對此,深圳市知識產權研究會會長鄞漢藩受訪表示,此次華為和三星的和解是對雙方都有利的一種局面,也是華為選擇的結果。高通和蘋果的和解也類似。

  (來源:大公報)

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